Super Mühəndislik Plastikləri (PEEK / PPS) yarımkeçiricisində

Rabitə avadanlığı, istehlakçı elektronikası, avtomobil və s. Kimi müxtəlif sahələrdə fişlərin artan tələbi ilə qlobal çip çatışmazlığı və qiymət artımı dalğası getdikcə daha da güclənir. Çip istehsal prosesi çox mürəkkəbdir, yarımkeçirici istehsala gəldikdə, tez-tez silikon wafters, elektron xüsusi qaz, fotomasklar, fotomasklar, hədəflər, kimyəvi maddələr və digər materiallar və digər materiallar və digər materiallar və digər materiallar və digər materiallar və digər materiallar və digər materiallar və əlaqədar avadanlıqlara çox vaxt ödənilir Görünməz qəyyum - plastik.

Yarımkeçirici istehsalı olan ən böyük problem çirkliliyin nəzarəti, xüsusən yarımkeçirici texnologiyanın inkişafı ilə, elektron komponentlərin daha da mürəkkəbləşməsi, çirklərin tolerantlığını, tozsuz təmizlik, yüksək səviyyədə təmizlənmə, yüksək səviyyədədir Temperatur, yüksək aşındırıcı kimyəvi maddələr.

Yarımkeçirici prosesi boyunca, plastiklərin rolu ilk növbədə hər işləmə addımını, çirklənmə və zərərin qarşısını alan, çirklənmə nəzarətinin qarşısını alan və kritik yarımkeçirici proseslərin məhsuldarlığının yaxşılaşdırılmasına mane olur. Istifadə olunan plastik materiallara peek, pps, pp, Abs, PVC, PBT, PB, PC, Fluoroplastika, Pai, Cop və s. Və yarımkeçirici texnologiyanın davamlı inkişafı ilə, material üçün performans tələbləri də çox yüksəkdir.

Aşağıdakılar yarımkeçirici istehsalda xüsusi mühəndislik plastik pastalarının peek / pps tətbiqinə diqqət yetirirlər.

1, CMP sabit üzük

Kimyəvi mexaniki daşları (CMP), vaffer istehsal prosesində əsas bir proses texnologiyasıdır, CMP sabit üzük, gofreti düzəltmək üçün daşlama prosesində istifadə olunur, materialların seçimi yaxşı aşınma müqaviməti, ölçülü sabitlik, kimyəvi korroziya müqaviməti, Kristal gofret / gofret səthi cızıqları, çirklənmənin qarşısını almaq asandır.

CMP Sabit üzük daşlama prosesində vaflonun düzəldilməsi üçün istifadə olunur, seçilmiş material, standart PPS istehsalından istifadə edərək, vafli səth cızma, çirklənmə və s.

Peek yüksək ölçülü sabitliyinə malikdir, emal etmək asandır, yaxşı mexaniki xüsusiyyətlər, yaxşı kimyəvi müqavimət və yaxşı aşınma müqaviməti, pps üzüyü ilə hazırlanmış, pipt cmp düzəltmə üzükdən daha çox aşınmaya davamlıdır, xidmət həyatı iki qat artır, beləliklə, iş vaxtı azaldır və gofret istehsal qabiliyyətinin yaxşılaşdırılması.

Material: Peek, pps

2. vafli daşıyıcıları

Vffer daşıyıcısı, ad göstərdiyi kimi, wafters, vafli operator qutusu, vafli nəqliyyat qutusu, kristal qayıq və s. Bütün istehsal prosesində nəqliyyat qutusunda saxlanılan gofretler, zamanın yüksək nisbətində, gofret qutusu özü, material, keyfiyyət və təmizlik, gofretin keyfiyyətinə daha çox təsir edə bilər.

Vafer daşıyıcıları ümumiyyətlə temperatur müqaviməti, əla mexaniki xüsusiyyətlər, ölçülü sabitlik, həm də möhkəm, statik, aşağı xarici, aşağı yağış, təkrar emal olunan materiallar, seçilmiş materiallar dəyişkən materiallar dəyişir.

Peek, ümumi ötürmə prosesini daşıyıcılarla, ümumiyyətlə istifadə olunan antistatik peek etmək üçün istifadə etmək üçün istifadə edilə bilər, peek, hissəciklərin çirklənməsinin qarşısını almağa və vaffer işinin etibarlılığını yaxşılaşdırmağa kömək etmək üçün bir çox əla xüsusiyyətlərə, kimyəvi müqavimət, ölçülü sabitlik, antistatik və aşağı qabaqda , saxlama və köçürmə.

Materiallara daxildir: Peek, PFA, PP, PES, PC, PEI, Cop və s., Ümumiyyətlə anti-statik xüsusiyyətləri ilə dəyişdirilmişdir.

3. İşlənmiş maska ​​qutusu

Photomask, qrafik ustası, kvars şüşəsi olan kvars metal kölgəsi kimi istifadə olunan və xrom metal kölgə ilə örtülmüş, silikon vafleri ilə işıq mənbəyindən istifadə edərək, silikon gofreyi ilə işıq mənbəyini göstərə bilər Nümunə. Fotomaskya bağlı olan hər hansı bir toz və ya cızıqlar proqnozlaşdırılan görüntünün keyfiyyətində pisləşməyə səbəb olacaq, buna görə fotomaskın çirklənməsinin qarşısını almaq və fotomaskın təmizliyinə təsir edə biləcək toqquşma və ya sürtünmə nəticəsində yaranan hissəciklərin qarşısını almaq lazımdır.

Maskanın duman, sürtünmə və ya yerdəyişməsi nəticəsində yaranan zərərin qarşısını almaq üçün maska ​​qutusu ümumiyyətlə anti-statik, aşağı xarici və möhkəm materiallardan hazırlanmışdır.

Peek yüksək sərtlik, çox aşağı hissəcik nəsil, yüksək təmizlik, anti-statik, kimyəvi müqavimət, aşınma müqaviməti, hidroliz müqaviməti, çox yaxşı dielektrik gücü və digər xüsusiyyətləri, istehsal, ötürmə və fotomasksda Fotomasklar, fotomask hesabatı ətraf mühitdəki aşağı xarici və aşağı ion çirklənməsində saxlanıla bilər.

Materiallar: Anti-statik peek, anti-statik PC və s.

4.Warter alətləri

Wafters və silikon gofrets, vafli sıxaclar, vakuum çubuqları və s.

Peek yüksək temperaturda müqavimət, aşınma müqaviməti, yaxşı ölçülü sabitlik, aşağı xarici və aşağı higkopiklik ilə xarakterizə olunur. Wafters və silikon wafters peek vafli sıxacları ilə sıxışdıqda, gofret və silikon wafter səthində cızıq yoxdur və sürtünmə səbəbiylə boşalma və silikon gofreti və silikon wafters-in yerüstü təmizliyini yaxşılaşdırır.

Material: peek

5.Semikonductor paketi test yuvası

Test yuvası cihazdakı test aləti ilə elektriklə əlaqəli hər yarımkeçirici komponentin birbaşa dövrə, müxtəlif test repetsləri müxtəlif mikroçiplər tərəfindən müəyyən edilmiş inteqrasiya edilmiş dövrə dizaynerlərini sınamaq üçün istifadə olunur. Test prizləri üçün istifadə olunan materiallar geniş temperatur aralığı, mexaniki güc, aşağı burr meydana gəlməsi, davamlılığı və emal asanlığı üzərində yaxşı ölçülü sabitliyin tələblərinə cavab verməlidir.

Materiallar: peek, pps, pai, pi, pei